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薄膜结构X射线表征（第二版）书籍详细信息
- ISBN：9787030441959
- 作者：暂无作者
- 出版社：暂无出版社
- 出版时间：2019-12
- 页数：暂无页数
- 价格：125.00
- 纸张：胶版纸
- 装帧：平装胶订
- 开本：16开
- 语言：未知
- 丛书：暂无丛书
- TAG：暂无
- 豆瓣评分：暂无豆瓣评分
内容简介：
本书结合作者二十多年来的工作积累和国内外**进展，系统介绍应用X射线衍射和散射技术表征薄膜微结构的多种基本实验装置、实验数据分析理论以及典型的薄膜微结构表征实例。全书分3篇(共19章)：第1篇为基本实验装置(第1～3章)，主要介绍X射线源、X射线准直和单色化、各种探测器以及薄膜X射线衍射仪和表面/界面散射装置。第2篇为基本理论(第4～10章)，介绍薄膜X射线衍射和散射实验数据分析所用的相关理论，包括用于薄晶体或小晶体多层膜和金属多层膜的X射线衍射运动学理论；用于近完美多层膜、半导体超晶格和多量子阱的X射线衍射动力学理论；用于原子密度和晶格参数很接近的金属多层膜的X射线异常衍射精细结构理论；用于薄膜和多层膜表面与界面分析的X射线反射、漫散射理论以及掠入射衍射理论。基本覆盖了目前应用X射线衍射和散射技术研究薄膜结构所需要的理论。第3篇为薄膜微结构表征(第11～19章)，介绍应用X射线衍射和散射技术表征薄膜微结构的实例，除了总结作者二十多年来在薄膜研究中所解决的微结构表征实例外，还尽量收集近年来国内外有关的重要结果，以供读者参考。薄膜的种类涉及半导体外延膜及超晶格材料、超导异质薄膜材料、金属磁性多层膜材料、软物质薄膜和有机半导体薄膜。表征的微结构包括单层膜和多层膜厚度、点阵参数、应力、表面与界面、缺陷、弛豫横向、调制结构以及钙钛矿结构氧八面体畸变。
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书籍真实打分
故事情节：5分
人物塑造：9分
主题深度：7分
文字风格：3分
语言运用：9分
文笔流畅：6分
思想传递：7分
知识深度：5分
知识广度：5分
实用性：8分
章节划分：5分
结构布局：8分
新颖与独特：8分
情感共鸣：9分
引人入胜：8分
现实相关：5分
沉浸感：7分
事实准确性：4分
文化贡献：3分
网站评分
书籍多样性：5分
书籍信息完全性：8分
网站更新速度：7分
使用便利性：4分
书籍清晰度：8分
书籍格式兼容性：5分
是否包含广告：4分
加载速度：6分
安全性：6分
稳定性：7分
搜索功能：3分
下载便捷性：5分
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下载评价
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